该晶圆打造厂坐落于豫东区域，重点工作加工85英寸半导体器件晶圆，日访问量焦化废水排出口量约800吨。考虑到工作加工方式中选择大批量氢氧化钠开展晶圆蚀刻，产生焦化废海里氟化物浓硫酸浓度敢达200-300mg/L，远超国家地区排出口要求（10mg/L一些）。 废渣化学物质及來源 污水主要存在八个部分： 晶圆蚀刻工艺流程 ：含高氧化还原电位氟化物（HF）、盐酸及小量天价属 药剂学自动化设备cnc精密机械加工（CMP）工业废水 ：含微米级硅小粒、有机化学络合剂 装备洁净废水处理方法 ：含异丙醇、氟化物等可挥发物 治理 过程过程 主要包括"化学上的石雕文化放置+混凝土石雕文化放置+程度过滤水"三阶段治理系統： 考试内容一级操作 ：加药系统氯化钙和氢氧化物钙，型成氟化钙沉淀物，氟化物取除率达85% 二级考试进行处理 ：增加PAC（缔合氯化铝）和PAM（pe塑料酰胺），去掉溶液态的废弃物 三级视频整理 ：利用多导电介质滤水器和抗逆性炭过滤，有水出氟化物质量浓度安稳在8mg/L有以下 关键性机械还包括：pH自然缓解系统的、斜管积累池、板框压滤机厂家（淤泥脱水烘干）。 从而作用 工程项目自动运行三年期监测方案库数据库信息显示： 氟化物均密度：7.2mg/L（高于部委规范标准） COD消除率：92% 淤泥水分含量率：≤65% 年利用氟化钙副產品约150吨，体现影视综合利用利用